Inel ceramic din alumină de înaltă puritate pentru camere de proces CVD / PVD
Inelul ceramic St.Cera este special conceput pentru utilizare în camerele de proces CVD (Depunere chimică din vapori) și PVD (Depunere fizică din vapori). Fabricat din 99,8% alumină de înaltă puritate (Al₂O₃), acest inel servește ca și căptușeală a camerei, inel de focalizare sau componentă a kitului de proces pentru a limita plasma și a proteja pereții camerei de eroziune. Materialul oferă o rezistență excelentă la plasmă, o rezistență dielectrică ridicată (15×10⁶ V/m) și o stabilitate termică de până la 1600°C, asigurând o durată lungă de viață în medii agresive cu plasmă pe bază de fluor. Toleranțele dimensionale precise (±0,05 mm pe interior/exterior) și planeitatea (≤10 μm) permit poziționarea consistentă a marginii plachetei, îmbunătățind uniformitatea depunerii și reducând generarea de particule.
Specificații (bazate pe 99,8% Al₂O₃):
| Proprietate | Valoare |
| Material | 99,8% alumină (fildeș) |
| Densitate | 3,93 g/cm³ |
| Absorbția apei | 0% |
| Rezistență la încovoiere | 361 MPa |
| Rezistența la fractură | 3–4 MPa·m¹/² |
| Duritate Vickers | 16 GPa |
| Modulul lui Young | 380 GPa |
| Conductivitate termică | 32 W/m·k |
| Expansiune termică (25–1000°C) | 7,2×10⁻⁶/℃ |
| Rezistență dielectrică | 15×10⁶ V/m |
| Rezistență specifică | >10¹⁴ Ω·cm |
| Temperatura maximă de funcționare | 1600°C |
Aplicații:
- · Inele de focalizare a camerei CVD și inele de margine
- · Inele de ecranare a camerei PVD și inele de fixare
- · Căptușeli și inele de acoperire pentru camera de gravare
- · Inele de confinare cu plasmă în sisteme de gravare dielectrică
Procesul de fabricație:
Presare izostatică → prelucrare ecologică → sinterizare la 1600°C → rectificare CNC interior/exterior → lepuire superficială → curățare cu ultrasunete → inspecție CMM 100%. Finisajul ultra-neted al suprafeței (Ra ≤0,4 μm) minimizează aderența particulelor.
Controlul calității:
- · Verificare dimensională 100% (diametru interior, diametru exterior, grosime, planeitate)
- · Inspecție cu substanță penetrantă pentru microfisuri de suprafață
- · Test de rezistență dielectrică conform ASTM D149
- · Fără decolorare sau porozitate vizibilă la microscopul de 20×
Avantaje față de inelele din metal sau cuarț:
- · Durată de viață de 5–10 ori mai lungă decât cea a inelelor de aluminiu din plasma cu fluor
- · Fără contaminare cu metale în peliculele subțiri
- · Rezistență la plasmă mai mare decât cuarțul (fără gropi de eroziune)
- · Menține o izolație electrică >10¹⁴ Ω·cm chiar și după utilizare pe termen lung
Material alternativ — nitrură de siliciu (Si₃N₄):
Pentru aplicații care necesită o tenacitate la fractură și mai mare (6,2 MPa·m¹/²) și o rezistență la șoc termic mai bună (coeficient de dilatare 3,2×10⁻⁶/℃), sunt disponibile inele de Si₃N₄. Cu toate acestea, alumina este mai rentabilă pentru majoritatea aplicațiilor CVD/PVD. Vă rugăm să specificați preferințele privind materialul la comandă.
Personalizare:
- · Găuri străpunse, profile în trepte sau găuri contra-alezaje pentru montare
- · Suprafață acoperită cu Y₂O₃ pentru rezistență sporită la plasmă (opțional)
- · Gravare cu laser a numărului piesei / codului lotului
Nota:Datele de mai sus respectă cu strictețe tabelul de proprietăți Al₂O₃ furnizat. Pentru inelele Si₃N₄, consultați fișa tehnică separată pentru Si₃N₄.
